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如圖：真空鍍膜專用冷水機

真空鍍膜機一般要配一臺冷水機為鍍膜機，提供循環冷卻水來降溫，中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高、電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應，電荷會聚集在電導體表面，這樣使電導發熱，所以需采用中孔管做導體中間加水冷卻。

廣州諾雄鍍膜冷水機是一種能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。通過水、油循環液體迅速降溫從而提高生產效率。

?真空鍍膜專用冷水機性能特點：
1.冷水機,通過自身吸入冷空 出熱空氣，散熱無需外接散熱塔，安裝、移動方便。主機采用歐美日進口壓縮機，內置安全保護，運行可靠,效率高,噪音低，省電耐用，使用壽命長。
2.微電腦智能溫控器，采用高精度數字顯示，能準確控制水溫±1℃。設定溫度值范圍3～50℃，數字可調，任意設置。
3.配備開放式不銹鋼厚質保溫箱，內置自動補水，自動控溫。
4.冷水機組冷凝器采用套管式，套內螺紋銅管，設計合理，換熱效率高。
5.冷水機組散熱冷排，由翹片上行列管組排，制造時采用二次翻邊翹片機械漲管工藝和先得換熱器，保證優質 。
6.靜電噴塑外殼，歐化設計，美觀精巧，經久耐用。外表板采用快速拆裝形式，方便使用和維護。側進風，側排風，散熱性能好。加裝腳輪，移動更方便。

真空鍍膜專用冷水機簡要介紹： 　

　(1).真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射，結合差工效低光澤差。現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。 　

　(2)中頻設備必須加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導體流動時有一個集膚效應，電荷會聚集在電導有表面積，這樣使電導發熱所以采用中孔管做導體中間加水冷卻。

　(3).（主要是圓柱靶）為什么也要用水冷卻？磁控濺射靶在發射時會產生高溫會使射嘴變形，所以它有一個水套來冷卻射嘴。同時還有一個重要原因磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中 突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。 　　

從更深層次研究電子在非均勻電磁場中的運動規律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質原因。磁控濺射可以被認為是鍍膜技術中 突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定

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