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離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發展起來的沉積技術。在真空條件下，真空鍍膜廠采用適當的方式使鍍膜材料蒸發，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發物質部分電離，在氣體離子和被蒸發物質離子的轟擊下，蒸發物質或其反應產物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據鍍膜材料不同的蒸發方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優點。

表離子鍍的種類及其特點

直流放電法  電阻  輝光放電dc:0.1kv～5kv  惰性氣體1pa，0.25ma/cm2  結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，分散性差！

耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法  電子束、燈絲  弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa  離化率高，易制成反應膜，耳機配件真空電鍍加工廠，可在高真空下成膜，利于提高質量  切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法  空心陰極  等離子體電子束dc:0v～200v

惰性氣體或反應氣體  離化率高，蒸發速度大，易獲得高純度膜層  裝飾、耐磨等鍍件

調頻激勵法  電阻、電子束  射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv

惰性氣體或反應氣體  離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差  光學、半導體等鍍件

電場蒸發法  電子束  二次電子dc:1kv～5kv

真空電鍍的前處置在電鍍出產線上是電鍍技術中十分關鍵的一步，基體資料外表處置的好壞直接影響鍍層的質量，因而應對電鍍前處置恰當的注重。

鍍件的鍍前處置是決議電鍍質量的重要要素之一。在實習出產中，電鍍故障率80%以上出在前處置工序，所以電鍍前處置作用的好壞就顯得尤為重要，真空電鍍廠下面詳細介紹基體的外表狀況對鍍層布局和聯系力的影響。

真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的大小、形狀及擺放方法決議著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進程不一樣所造成的。開端電鍍時，基體資料外表首要生成一些纖細的小點，耳機配件真空電鍍工廠，即結晶核，跟著時刻添加，單個結晶數量添加，并相互銜接成片，構成鍍層。

真空電鍍廠的方法很多：

1.真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。

2.陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電， 真空電鍍廠帶正電的ya離子撞擊陰極，耳機配件真空電鍍哪里有，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

3.化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。

4.離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。

真空電鍍廠基體材料的外表情況是危害遮蓋才氣的關鍵因素之一。見習標出，金屬材料在不一樣基體材料通電沉積時，陽江耳機配件真空電鍍，同一鍍液的遮蓋才氣不一樣也非常大。如用鉻酸水溶液不銹鋼，金屬鉻在銅、鎳、紫銅和鋼上沉積時，鍍液的遮蓋才氣依次下降。這是由于當金屬離子在不一樣的基體材料上還原沉積時，其過電位的標值有非常大的不一樣。過電位較小的分離出來電位差較正，就算在電流強度較低的位置也可以到達其分離出來電位差的標值，因而其遮蓋才氣不錯。

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