單一添加使用方便，鍍層光亮度好，走位性能好，適合低鉻鈍化，老鍍液可直接添加，不影響質量

二．工藝配方及技術條件

氧化鋅  8-10克/升       氫氧化鈉      100-120克/升

TS-98   5-8毫升/升    凈化劑       4-8毫升/升  

走位劑  1-2毫升/升         溫度           10-50℃

DK     0.5-5A/d㎡     陰極面積：陽極面積=1：1.5-2 

陽極材料:   0#鋅板

三．電解液配制

（1）先將槽內注入50℃左右溫水，將計算量的氫氧化鈉加入鍍

槽，攪拌至溶解

（2）用少量的水將計算量的氧化鋅調成糊狀并攪拌下加入鍍槽，再

繼續劇烈攪拌使之全部溶解

（3）加水至所需要的體積

（4）將計算量的光亮劑加入鍍槽攪拌均勻

（5）以0﹒2A/d㎡電流電解2-4小時既可生產

四．生產維護管理

（1）應定期分析電鍍液并及時調整，使氫氧化鈉與氧化鋅的濃度比保持

10-12：1

（2）TS-98光亮劑要少加勤加的原則，添加時應攪拌均勻 

（3）定期以0﹒2A/d㎡的電流**用瓦楞鐵板做陰板電解處理，使有

害重金屬雜質去除。

（4）電解液通常每一個月過濾一次，清除槽底污物，2-3個月用TS-998

（原CK-778）除雜劑大處理一次，以確保溶液的純凈

五．原料的作用

    氧 化 鋅：提供鋅離子，含量高，沉積速度快，深鍍能力差，高電流

區易燒焦，

    氫氧化鈉：起導電作用，含量低，陽極易鈍化，高區易燒焦，低區不

上鍍，含量高，陽極溶解太快，不易控制。